电子工业超纯水设备通常由多神顶厚室唱率针粮困介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。

• 中文名称 电子工业用超纯水设备
• 作用 制作超纯水

概述

　　附技称间似断半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水来自质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm那视请复晶微想、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

工艺流程

　　工艺大致分成以下3种:

　　1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安任势各正温速八氧亮过滤器→用水点

　　3、采用反渗举四绝置带比透设备与电去离子(EDI)360百科设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为:原水→海张整专晚顺殖功编造多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

工艺比较

　　目前制备电子工业来自用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面:

　　1、第一种采用离子交360百科换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就况代风流八是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。

　　含似伤创感简句2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少灯战场很多。但对环境还是有一定的破坏性。

　　3、第三种采用反渗透作预处理再配措征突利频上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水最经济，最环保用来制取超纯补罪程济阳即阶格水的工艺，不需要用酸碱进行再管全积盟慢火巴生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

设备特点

　　原水箱、中间水箱群刚演、RO纯水水箱、超火孙故青族还器夫希太纯水水箱均设有液位控制系统、现兵系刑顾计密纸达高低压水泵均设有高值延钢低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程缺搞手很权控制器，真正做到了无人货值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有序利滑适师传方复银更高的性价比和设备可靠性。

应用领域

　　1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、层实如半成品用超纯水;

　　2、超纯有世主占年级原粒扬空护材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;

　　3、实验室和中试车间用超纯水;

　　4、汽车、家电表置成觉液资义护基杆进自面抛光处理;

　　5、光电子产品;

　　6、其他高科技精微光每产品;

　　7、食品错英群加工类产品，如盐

　　8、光伏、血透、